7月24日至26日，由我校与复旦大学、云南大学联合主办的第十二届中国原子层沉积会议（CALD2026）在昆明举办。本次会议由江苏迈纳德微纳技术有限公司与我校物理与电子信息学院承办，来自全国高校、科研院所及企业的百余位专家学者齐聚春城，共话原子层沉积（ALD）技术的最新进展与未来趋势。

会议紧扣当前国际学术前沿与国家重大战略需求，精心设置了ALD设备与工艺、微电子材料与器件、光电子材料与器件、催化剂与分离膜、能量收集与存储、纳米结构合成与加工六大主题，全面覆盖了我国原子层沉积领域的研究热点与发展方向。会议邀请了北京理工大学沈国震教授、华中科技大学陈蓉教授、南开大学孙甲明教授、南京大学李爱东教授等国内知名学者，共带来14场大会报告，分享了在可重构光电晶体管、催化材料原子级制造、硅基电致发光器件等领域的最新研究成果。会议还设有墙报展示和交流研讨环节，为参会专家学者和企事业单位提供了充分深入的高水平交流平台。

会议期间，与会代表围绕ALD技术在微电子、光电子、催化、能源、光学涂层、抗腐蚀和生物医用材料等领域的应用基础与工程问题，展开了广泛而深入的探讨。大家一致认为，原子层沉积技术作为实现纳米乃至亚纳米尺度薄膜和颗粒精准制备的关键手段，在国家重大需求牵引和产业技术升级的双重驱动下，正迎来前所未有的发展机遇。

本次会议系统梳理了我国原子层沉积技术与应用的最新进展，促进了学术界与产业界的深入交流与合作，为推动ALD技术在更多领域的落地应用奠定了良好基础，进一步促进了云南省在微电子、新材料等领域的学科建设与产学研合作。作为联合主办方之一，我校将继续发挥学科优势，积极推动原子层沉积技术在西部地区的应用与产业化发展。

（物理与电子信息学院 供稿）